Intel ha ufficialmente inaugurato la nuova Fab 28 di Kiryat Gat, in Israele. La nuova fonderia sarà la prima a produrre chip con processo produttivo a 45 nm High-K e metal gate in grandi volumi, permettendo a Intel di superare i problemi di shortage nati nell’ultimo periodo.
La nuova fonderia, costata più di 3,5 miliardi di dollari, è il terzo impianto adibito alla produzione di chip a 45 nm; inaugurata in presenza del primo ministro israeliano Ehud Olmert fornirà lavoro a più di 6.000 specialisti di alto livello.
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Intel ha da tempo una stretta collaborazione con Israele che, anche in questo caso, ha offerto un finanziamento superiore al miliardo di dollari per la realizzazione dell’impianto.